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氧化铝抛光液 ALUMTX 2

ALUMTX100NM是专门设计以用于高要求的抛光应用领域,通过高切削力来达到比市场平均水平的0.1 um氧化铝抛光耗材节约25%的成本。作为一种99.99%纯度的氧化铝抛光液ALMTX100NM能够在最大限度的减少表面损伤的同时带来最大限度的切削力.其聚集的结晶颖粒,快速裂变破碎来提高切削力和表面质量*(备注:与工业标准的0.1 um氧化铝抛光耗材,针对锗和不锈钢抛光进行测试结果对比)。ALUMTX100NM已在光电抛光行业成功证明其优良的有效性,包括红外材料,半导体晶圆,锗,有色金属,晶体及陶瓷材料,可以用水稀释使用,其稀释比例取决于相关应用和要求。

关键词：

氧化铝抛光液 ALUMTX 2

所属分类：

Hastlite高纯度氧化铈抛光液

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产品描述

ALUMTX100NM是专门设计以用于高要求的抛光应用领域,通过高切削力来达到比市场平均水平的0.1 um氧化铝抛光耗材节约25%的成本。
作为一种99.99%纯度的氧化铝抛光液ALMTX100NM能够在最大限度的减少表面损伤的同时带来最大限度的切削力.其聚集的结晶颖粒,快速裂变破碎来提高切削力和表面质量*(备注:与工业标准的0.1 um氧化铝抛光耗材,针对锗和不锈钢抛光进行测试结果对比)。ALUMTX100NM已在光电抛光行业成功证明其优良的有效性,包括红外材料,半导体晶圆,锗,有色金属,晶体及陶瓷材料,可以用水稀释使用,其稀释比例取决于相关应用和要求。